Strona główna

Wzory formularzy


Pobieranie 2.11 Mb.
Strona3/18
Data19.06.2016
Rozmiar2.11 Mb.
1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   18

* wstawić odpowiednią wartość TAK lub NIE

..............................., ............... 2013 r. .......................................................................

miejscowość, data podpis i pieczątka Wykonawcy

Wzór nr 3b

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013

(pieczęć Wykonawcy)




CEZAMAT PW Sp. z o.o.

ul. Polna 50

00-644 Warszawa

OPIS URZĄDZEŃ APARATURY NAUKOWO – BADAWCZEJ

OFEROWANYCH PRZEZ WYKONAWCĘ

Budowa Laboratorium Centralnego wraz z dostawą elementów wyposażenia, a także dostawą, instalacją i uruchomieniem aparatury naukowo - badawczej w ramach prawa opcji.

Lp.

Nazwa urządzenia

Parametry wymagane

Potwierdzenie posiadania parametru

(TAK* / NIE*)

Oferowana wartość parametru


2.

Urządzenie do centrowania i naświetlania wiązką elektronową (elektronolitograf).

2.1.

Główne zastosowania.







2.1.1.

Urządzenie do centrowania i naświetlania wiązką elektronową służące do definiowania różnego rodzaju obiektów o rozmiarach nanometrycznych metodą litografii elektronowej. Urządzenie przeznaczone jest do bezpośredniego generowania wzorów i masek litograficznych na różnego rodzaju podłożach z wykorzystaniem znaczników centrujących lub bez nich przy użyciu wysokoenergetycznej wiązki elektronowej.







2.2.

Przedmiot zamówienia wraz z wszystkimi opcjami i elementami wyposażenia dodatkowego, w jakie powinno być wyposażone urządzenie. Części składowe urządzenia/systemu (jeśli możliwe jest ich wyodrębnienie). Spis części i materiałów eksploatacyjnych, z którymi ma być dostarczone urządzenie.







2.2.1.

Jednostka główna z kolumną elektronową do generacji wzorów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją.







2.2.2.

Stolik laserowy.







2.2.3.

Stacja załadowcza.







2.2.4.

Blok wysokiego napięcia.







2.2.5.

Automatyczny bezolejowy system próżniowy.







2.2.6.

Panele sterujące.







2.2.7.

Komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.







2.2.8.

Miernik monitorujący prąd wiązki.







2.2.9.

Zasilacz awaryjny UPS.







2.2.10.

Zamknięty układ chłodzenia wodnego (woda-woda).







2.2.11.

Transformator, jeżeli jest konieczny.







2.2.12.

System kompensacji pól elektromagnetycznych AC i DC.







2.2.13.

Stół oraz 2 krzesła przystosowane do pracy w pomieszczeniu czystym (ang. clean room) o klasie czystości 10.







2.2.14.

Urządzenia pomocnicze niezbędne do uruchomienia, eksploatacji Urządzenia i przechowywania osprzętu i narzędzi serwisowych.







2.3.

Minimalne akceptowane parametry techniczne (zarówno samego urządzenia, jaki elementów wyposażenie dodatkowego), jakie powinno spełniać zamawiane urządzenie.







2.3.1.

Jednostka główna z kolumną elektronową do generacji wzorów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją







2.3.1.1.

W pełni funkcjonalne Urządzenie musi być sterowane cyfrowo za pomocą oprogramowania zainstalowanego na komputerze.







2.3.1.2.

Urządzenie musi być wyposażone w działo elektronowe z termiczną emisją polową (Zr/W) (katoda Schottky – żywotność katody minimum 1 rok).







2.3.1.3.

Napięcie przyspieszające: co najmniej trzy wartości 100 kV, 50 kV i 25kV (lub 20kV zamiast 25kV). Napięcie przyspieszające musi być ustawiane cyfrowo, może być regulowane płynnie lub skokowo.







2.3.1.4.

Regulacja (płynna, cyfrowa) wartości prądu wiązki elektronowej na próbce (ang. probe current)
w zakresie co najmniej od 50pA do co najmniej 100nA.







2.3.1.5.

Wymagana stabilność prądu wiązki elektronowej nie gorsza niż 0,5%/godz.







2.3.1.6.

Stabilność pozycjonowania wiązki elektronowej: ≤ 10nm/godz.







2.3.1.7.

Mierzona minimalna średnica wiązki: < 3 nm.







2.3.1.8.

Sposób generowania wzoru: bezpośrednie generowanie wzoru ze skanowaniem wektorowym wiązką elektronową o przekroju okrągłym (ang. vector scan).







2.3.1.9.

Minimalny wymiar naświetlanego elementu: ≤ 8 nm przy napięciu 100kV.







2.3.1.10.

Układ odchylania wiązki elektronowej:







2.3.1.10.1.

Całkowicie elektrostatyczny (deflektor główny i sub-deflektor) lub elektromagnetyczny







2.3.1.10.2.

Zakres szybkości skanowania wiązki elektronowej co najmniej: 50 MHz ÷ 250 Hz (20nsec do 4msec na jeden krok skanowania – ang. scanning step size).







2.3.1.10.3.

Dokładność (rozdzielczość) ustawiania położenia wiązki: 19 bit (całkowicie elektrostatycznie DAC) lub lepsza.







2.3.1.10.4.

Maksymalna powierzchnia naświetlania/generowania wzoru na podłożu/próbce: co najmniej 150mm × 150mm.







2.3.1.11.

Minimalny skok rastra adresowania położeń wiązki (rozdzielczość układu odchylania) nie większy niż:







2.3.1.11.1.

0.125 nm przy 100kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.11.2.

0. 25 nm przy 50kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.11.3.

0.5 nm przy 25kV lub 20kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.11.4.

1 nm przy 100kV (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.11.5.

2 nm przy 50kV (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.11.6.

4 nm przy 25kV lub 20kV (tryb wysokiej szybkości pisania).







2.3.1.12.

Maksymalne pole skanowania przez odchylanie wiązki elektronowej co najmniej:







2.3.1.12.1.

62.5 μm × 62.5 μm przy 100kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.12.2.

125 μm × 125 μm przy 50kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.12.3.

250 μm × 250 μm przy 25kV lub 20kV (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.12.4.

500 μm × 500 μm przy 100kV (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.12.5.

1000 μm × 1000 μm przy 50kV (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.12.6.

1000 μm × 1000 μm przy 25kV lub 20kV (tryb wysokiej szybkości pisania).







2.3.1.13.

Dokładność sklejania wzorów sąsiadujących, dokładność centrowania wzajemnie nakładających się wzorów:







2.3.1.13.1.

Przy napięciu przyspieszającym 100 kV: ≤ 10 nm (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.13.2.

Przy napięciu przyspieszającym 50 kV: ≤ 20 nm (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.13.3.

Przy napięciu przyspieszającym 25 kV lub 20kV: ≤ 20 nm (tryb wysokiej rozdzielczości pisania),







2.3.1.13.4.

Przy napięciu przyspieszającym 100 kV: ≤ 20 nm (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.13.5.

Przy napięciu przyspieszającym 50 kV: ≤ 30 nm (tryb wysokiej szybkości pisania),







2.3.1.13.6.

Przy napięciu przyspieszającym 25 kV lub 20kV: ≤ 40 nm (tryb wysokiej szybkości pisania).







2.3.1.14.

Centrowanie pola generacji wzorów:

  1. automatyczne z wykorzystaniem 4-ro punktowego układu znaczników,

  2. ręczne z wykorzystaniem elektronowego obrazu SE.







2.3.1.15.

Urządzenie musi być wyposażone w co najmniej następujące detektory obrazów elektronowych:

  1. Detektor elektronów wtórnych (SE),

  2. Półprzewodnikowy detektor elektronów wstecznie rozproszonych (BSE).

Detektory muszą pracować w podanym zakresie napięć i prądów.







2.3.1.16.

Wymagana cyfrowa rejestracja obrazów SE.







2.3.1.17.

Korekcja aberracji związanych z odchylaniem wiązki: dynamiczna korekcja ostrości i dynamiczna korekcja stygmatyzmu za pomocą całkowicie elektrostatycznego układu korekcji.







2.3.1.18.

Wymagany układ sterowania cyfrowego ze stacją roboczą z oprogramowaniem sterującym uruchamianym w dostarczonym systemie operacyjnym.







2.3.1.19.

Urządzenie musi być wyposażone w laserowy układ pomiaru wysokości powierzchni próbki.







2.3.1.20.

Urządzenie (główna komora) musi być wyposażone w system antywibracyjny (system redukcji drgań odpowiedni do warunków środowiskowych umożliwiając uzyskanie wymaganych parametrów we wskazanym przez Zamawiającego miejscu instalacji.







2.3.1.21.

System ma obejmować stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem do konwersji danych zapisywanych w przyjętych powszechnie formatach (GDS II, STREAM), zaawansowanej edycji danych graficznych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.







2.3.1.22.

Musi być dostarczone oprogramowanie do obsługi i diagnostyki Urządzenia on-line.







2.3.1.23.

Oprogramowanie musi umożliwiać zdalną obsługę Urządzenia przez Internet.







2.3.1.24.

Oprogramowanie musi umożliwiać korekcje parametrów naświetlania: korekcje dawki (ang. dose correction), korekcje położenia wiązki (ang. beam position correction) i korekcje odchylenia wiązki (ang. beam deflection system correction).







2.3.1.25.

Oprogramowanie do obsługi Urządzenia musi między innymi:

  1. zapewniać kontrolę parametrów katody,

  2. zapewniać obsługę podstawowych funkcji Urządzenia,

  3. zapewniać kontrolę i sterowanie procesami naświetlania,

  4. zapewniać zmianę warunków skanowania,

  5. zawierać wszystkie parametry potrzebne do obrazowania i możliwość ich zmian (kontrast, jasność, ustawianie ostrości, korekcję astygmatyzmu)

  6. zapewniać kontrolę i sterowanie stolika laserowego,

  7. zawierać program do rysowania projektów,

  8. zapewniać testowanie, diagnostykę i justowanie systemu,

  9. zawierać interfejs graficzny zapewniający wizualizację stanu Urządzenia i przebiegu aktualnie wykonywanych procesów,

  10. zapewniać dokładną analogową kontrolę położenia wiązki,

  11. zawierać oprogramowanie do generowania nakładających się wzorów z automatycznym przesunięciem pola lub system musi posiadać automatyczną kontrolę nakładania się wzorów z wykorzystaniem znaczników referencyjnych,

  12. zawierać wszystkie dostępne licencje,

  13. oraz powinno dawać możliwość definiowania i przechowywania w dedykowanej bazie danych procedur i parametrów wielu procedur (w wielu rożnych grupach dostępnych jedynie dla posiadających odpowiednie uprawnienia użytkowników), a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników.







2.3.1.26.

Wykonawca dostarczy bezterminową licencję na dostarczone oprogramowanie.







2.3.2.

Parametry stolika laserowego (stołu roboczego):







2.3.2.1.

Średnica montowanego podłoża/próbki: co najmniej 200 mm,







2.3.2.2.

Średnica montowanej maski: co najmniej 175mm,







2.3.2.3.

Kontrola pozycji stołu roboczego: przy wykorzystaniu interferometru laserowego z krokiem co najmniej λ/1024 (ok. 0,62 nm),







2.3.2.4.

Znaczniki centrowania (kalibracji układu współrzędnych stołu roboczego): umieszczone na stałe na stole roboczym, lub automatyczny system ustawienia pozycji stołu przy pomocy systemu pomiarowego interferometru laserowego,







2.3.2.5.

zakres ruchu stolika w osiach X i Y: co najmniej 190 mm × 170 mm,







2.3.2.6.

powierzchnia naświetlania: co najmniej 150 mm ×150 mm,







2.3.2.7.

prędkość ruchu stolika: co najmniej 10mm/s.







2.3.3.

Stacja załadowcza i uchwyty (kasety) podłoży i próbek:







2.3.3.1.

Jednokasetowa stacja załadowcza do załadunku podłoży i próbek w trybie ręcznym lub wielokasetowa stacja w trybie automatycznym







2.3.3.2.

Kasety do załadunku podłoży/próbek:

  1. Kaseta na podłoża 51mm, sztuk 2

  2. Kaseta na podłoża 76mm, sztuk 1

  3. Kaseta na podłoża 100mm, sztuk 2

  4. Kaseta na podłoża 150mm, sztuk 2

  5. Kaseta na podłoża 200mm, sztuk 1

  6. Kaseta na co najmniej 2 małe fragmenty/próbki (10 ×10mm).

  7. Kaseta na maski 125 (lub 130mm)/150mm, sztuk 1

  8. Kaseta na maski 175mm, sztuk 1







2.3.3.3.

Czas ustawiania wysokości powierzchni podłoża/próbki w kasecie: ≤ 1 minuty







2.3.4.

Blok wysokiego napięcia







2.3.4.1.

Musi być dostarczony odpowiedni blok wysokiego napięcia, zapewniający prawidłową prace systemu.







2.3.5.

Automatyczny bezolejowy system próżniowy







2.3.5.1.

Całkowicie automatyczny, bezolejowy układ próżniowy. Uzyskiwany przez system pompowania poziom wysokiej próżni w komorze próbki lepszy niż 5x10-6mbar.







2.3.5.2.

Automatyczne programy zapowietrzania i pompowania śluzy, czas pompowania do próżni wymagane w procesie - poniżej 30 min.,







2.3.5.3.

Automatyczny tryb utrzymania wymaganej próżni w komorze roboczej,







2.3.5.4.

Automatyczny przebieg zapowietrzania i pompowania śluzy przy wymianie naświetlanych podłoży.







2.3.6.

Panele sterujące







2.3.6.1.

Urządzenie musi zawierać panel kontrolny składający się z zintegrowanej klawiatury, przycisków i systemu pokręteł pozwalających na cyfrową regulacją podstawowych, często używanych parametrów i funkcji.







2.3.7.

Komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa







2.3.7.1.

Wymagane oprogramowanie:

  1. Pakiet zawansowanego oprogramowania (z wszystkimi dostępnymi licencjami) do korekcji efektu sąsiedztwa (ang. Proximity Effect Correction),

  2. Oprogramowanie do tworzenia struktur 3D,

  3. Oprogramowanie do projektowania CAD,

  4. Oprogramowanie do korekcji kształtu,

  5. Oprogramowanie do symulacji Monte Carlo.







2.3.8.

Miernik monitorujący prąd wiązki







2.3.8.1.

System ma zawierać detektor pomiaru prądu wiązki elektronowej oraz cyfrowy miernik prądu wiązki (pikoamperomierz).







2.3.9.

Zasilacz awaryjny UPS







2.3.9.1.

System do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z wyposażeniem ma być: wyposażony w układ awaryjnego zasilania (UPS) pozwalający na potrzymanie zasilania na minimum 10 min.







2.3.10.

Zamknięty układ chłodzenia wodnego (woda-woda)







2.3.10.1.

Wraz z Urządzeniem musi być dostarczony i zainstalowany dedykowany układ chłodzenia wodą w obiegu zamkniętym (woda-woda). Chłodzenie wodne musi swoją wydajnością zapewnić stabilną i prawidłową pracę całego systemu.







2.3.11.

Transformator, jeżeli jest konieczny







2.3.11.1.

Musi być dostarczony odpowiedni transformator zapewniający stabilna i prawidłową pracę Urządzenia na terenie Polski (jeżeli jest konieczny).







2.3.12.

System kompensacji pól elektromagnetycznych AC i DC







2.3.12.1.

Musi być dostarczony i zainstalowany dedykowany system do kompensacji pól elektromagnetycznych AC i DC.







2.3.13.

Stół oraz 2 krzesła przystosowane do pracy w pomieszczeniu czystym o klasie czystości 10







2.3.13.1.

Musi być dostarczony minimum jeden stół oraz dwa krzesła do pomieszczenia czystym o klasie czystości 10, w którym znajdować będzie się Urządzenie.







2.3.14.

Urządzenia pomocnicze niezbędne do uruchomienia, eksploatacji urządzenia i przechowywania osprzętu i narzędzi serwisowych oraz inne wymagania







2.3.14.1.

Muszą być dostarczone minimum dwa komputery wraz z monitorami LCD (co najmniej 19”) do obsługi Urządzenia.







2.3.14.2.

Obsługa wszystkich urządzeń musi być możliwa przy wykorzystaniu języka polskiego lub angielskiego (dotyczy to w szczególności opisu elementów sterujących na konsolach, klawiaturze, urządzeniach itd.).







2.3.14.3.

System musi zawierać podstawowy zestaw narzędzi (4 pęsety, 2 chwytaki próżniowe, itp.) do obsługi Urządzenia.







2.3.14.4.

Musi być dostarczony gaz SF6 w butli z reduktorem, jeżeli jest konieczny.







2.3.14.5.

Wymagane jest, aby na Urządzeniu oraz na stole do obsługi urządzenia znajdował się wyłącznik bezpiecznego wyłączenia Urządzenia w sytuacji awaryjnej.







2.3.14.6.

Urządzenie musi być dostarczone w stanie gotowym do pracy bez konieczności kupna dodatkowych przystawek, licencji, opcji, przewodów, urządzeń niezbędnych do jego uruchomienia i prawidłowego funkcjonowania.







2.3.14.7.

Wykonawca zapewnia wszystkie niezbędne do utrzymania w ruchu mikroskopu materiały eksploatacyjne w okresie gwarancji (smary, oleje, uszczelki, filtry wody, czynniki chłodzące, gazy, itd.).







2.3.14.8.

Muszą być dostarczone szafy na osprzęt serwisowy.







2.3.14.9.

Musi być dostarczona drabina i dźwig niezbędny do serwisowania Urządzenia, jeżeli będą potrzebne.







2.3.14.10.

Infrastruktura informatyczna pomieszczenia Urządzenia (kable, routery, przejściówki, oprogramowanie itp.), wymagana do eksploatacji Urządzenia jako systemu wykorzystującego co najmniej 2 komputery.







2.3.14.11.

Musi być dostarczone urządzenie cyfrowe do monitorowania i rejestracji parametrów środowiskowych : temperatura , wilgotność.







2.4.

Nietypowe parametry urządzenia i/lub jego wyposażenia istotne ze względu na sposób użytkowania, czy instalację. Wymagania co do wymiarów i wagi urządzenia.







2.4.1.

Urządzenie musi być kompatybilne z klasą czystości pomieszczenia „10”.







2.4.2.

Wymiary poszczególnych elementów Urządzenia muszą umożliwiać ich transport wewnątrz budynku do miejsca instalacji Urządzenia przez drzwi o wymiarach otworu: szerokość 150cm i wysokość 260cm, chyba że, Wykonawca uzyska pisemną akceptację Zamawiającego na niespełnienie tego warunku. W przypadku, gdy Wykonawca zaoferuje urządzenia o parametrach wymagających przy dostawie i instalacji zapewnienia szerokości otworu drzwi większej niż podana w dokumentacji projektowej, Zamawiający dopuszcza wyrażenie zgody na zmianę parametru szerokości drzwi. Zmiana wymagać będzie uzyskania pisemnej zgody projektanta na zmianę dokumentacji projektowej w tym zakresie. Wykonawca winien zwrócić się z odpowiednim wnioskiem do Zamawiającego w terminie umożliwiającym wprowadzenie odpowiednich zmian do dokumentacji projektowej, w tym gwarantującym wykonywanie robót budowlanych uwzględniających zmianę zgodnie Harmonogramem rzeczowo – finansowym.







2.4.3.

Wymiary Urządzenia w stanie gotowym do pracy muszą uwzględniać wysokość przestrzeni między sufitem podwieszanym i podniesioną podłogą, która wynosi 270cm.







2.4.4.

Wymiary zmontowanego Urządzenia wraz z jego strefą serwisową muszą mieścić się wewnątrz wyznaczonych linii ograniczających powierzchnię posadowienia Urządzenia zaznaczonych na planie rozmieszczenia, chyba że Wykonawca uzyska pisemną akceptację Zamawiającego na niespełnienie tego warunku.







2.4.5.

Maksymalna waga Urządzenia musi uwzględniać przyjęte maksymalne obciążenie użytkowe wynoszące 5 kN/m 2 .







2.5.

Zdefiniowanie i opis wymaganych technologii, z jakimi ma być dostarczone urządzenie.







2.5.1.

Musi być dostarczona technologia centrowania Urządzenia, technologia wykonania litografii elektronowej.






1   2   3   4   5   6   7   8   9   ...   18


©snauka.pl 2016
wyślij wiadomość