Strona główna

Wzory formularzy


Pobieranie 2.11 Mb.
Strona8/18
Data19.06.2016
Rozmiar2.11 Mb.
1   ...   4   5   6   7   8   9   10   11   ...   18

* wstawić odpowiednią wartość TAK lub NIE.

..............................., ............... 2013 r. .......................................................................

miejscowość, data podpis i pieczątka Wykonawcy

Wzór nr 3g

Znak postępowania: CEZAMAT/ZP01/2013

(pieczęć Wykonawcy)



CEZAMAT PW Sp. z o.o.

ul. Polna 50

00-644 Warszawa

OPIS URZĄDZEŃ APARATURY NAUKOWO – BADAWCZEJ

OFEROWANYCH PRZEZ WYKONAWCĘ

Budowa Laboratorium Centralnego wraz z dostawą elementów wyposażenia, a także dostawą, instalacją i uruchomieniem aparatury naukowo - badawczej w ramach prawa opcji.


Lp.

Nazwa urządzenia

Parametry wymagane

Potwierdzenie posiadania parametru

(TAK* / NIE*)

Oferowana wartość parametru


7.

Spektrometr fotoelektronów wzbudzanych promieniowaniem rentgenowskim wraz ze spektrometrem Augera (XPS +AES)

7.1.

Główne zastosowania.







7.1.1.

Analizy powierzchni próbek substancji stałych technikami spektroskopii elektronowych XPS i AES







7.2.

Przedmiot zamówienia wraz z wszystkimi opcjami i elementami wyposażenia dodatkowego, w jakie powinno być wyposażone urządzenie. Części składowe urządzenia/systemu (jeśli możliwe jest ich wyodrębnienie). Spis części i materiałów eksploatacyjnych, z którymi ma być dostarczone urządzenie.







7.2.1.

Urządzenie musi umożliwiać wykonywanie analiz powierzchni próbek substancji stałych technikami spektroskopii elektronowych:







7.2.1.1.

Spektroskopii fotoelektronów (XPS) wzbudzanych monochromatycznym promieniowaniem rentgenowskim,







7.2.1.2.

Spektroskopii AES







7.2.1.3

Spektroskopii UPS







7.2.2.

Urządzenie musi mieć:







7.2.2.1.

Osobną komorę analityczną ultra wysokiej próżni (ciśnienie bazowe nie wyższe niż 6,75x10-10 mbar.) ze źródłami promieniowania, analizatorem/ami i detektorem/ami (z oprzyrządowaniem, elektroniką i oprogramowaniem) zapewniającymi wykonywanie analiz technikami XPS, AES, UPS oraz opcjonalnie ISS; wyposażenie komory analitycznej musi zapewnić możliwość analizy punktowej oraz obrazowania metodami XPS i AES, możliwość precyzyjnego wyboru analizowanej powierzchni oraz wykonania profilowania wgłębnego próbki na wybranej powierzchni ≤ 1×1 mm;







7.2.2.2.

Komorę preparacyjną ultra wysokiej próżni (ciśnienie bazowe nie wyższe niż 6,75x10-10 mbar), połączoną z komorą analityczną przez zawór, wyposażoną w urządzenia do czyszczenia i przygotowania powierzchni próbek, magazyn próbek oraz w układ LEED wraz z oprzyrządowaniem, elektroniką i oprogramowaniem,







7.2.2.3.

System ładowania próbek do Urządzenia, który zapewnia nieprzerwane utrzymanie w komorach badawczej i preparacyjnej warunków UHV,







7.2.2.4.

System przenoszenia próbek pomiędzy wszystkimi uchwytami próbek zainstalowanymi w Urządzeniu,







7.2.2.5.

Niezbędne systemy dozowania gazów do komór lub urządzeń,







7.2.2.6.

Systemy pomiaru i kontroli ciśnienia i temperatury,







7.2.2.7.

Systemy wytwarzania próżni bezolejowej i jej kontrolowania w poszczególnych komorach,







7.2.2.8.

W przypadku stosowania pomp turbomolekularnych muszą być zastosowane zawory zapobiegające zapowietrzeniu komór w przypadku ich zatrzymania,







7.2.2.9.

Niezależne układy regulacji i pomiaru temperatury próbek w komorach badawczej i preparacyjnej,







7.2.2.10.

Układy sterowania zapewniające łatwą obsługę i odporność na awarie, np. zanik napięcia zasilania, wyłączenie wody chłodzącej, itp.







7.2.2.11.

Urządzenie musi umożliwiać wykonanie obrazowania XPS (poprzez skanowanie monochromatyczną wiązką rentgenowską lub przemiatanie, ewentualnie obrazowanie równoległe, powierzchni przy użyciu optyki elektronowej analizatora) i AES wybranego obszaru próbki (tego samego za pomocą obydwu technik).







7.2.2.12.

Dostarczony komputer sterujący z wyposażeniem musi zapewniać ergonomiczną, płynną i bezproblemową pracę Urządzenia przy korzystaniu z dedykowanego oprogramowania.







7.2.2.13.

Komplet części eksploatacyjnych obejmujący:

  1. Włókna (lub tip) zainstalowanych źródeł promieniowania, dział jonowych i elektronowych – po 1 kpl.

  2. Włókna pompy sublimacyjnej – 1 kpl.

  3. Włókna sond jonizacyjnych – 1 kpl.

  4. Okienko lampy RTG – 1 kpl.

  5. Wkład smarowniczy pompy turbo (jeśli wymagany) – 1 kpl.







7.3.

Minimalne akceptowane parametry techniczne (zarówno samego urządzenia, jaki elementów wyposażenie dodatkowego), jakie powinno spełniać zamawiane urządzenie.







7.3.1.

KOMORA ANALITYCZNA SPEKTROSKOPII ELEKTRONOWEJ







7.3.1.1.

Komora wykonana z μ–metalu, zapewniająca ograniczenie wpływu zewnętrznych pól magnetycznych, z kołnierzami przyłączeniowymi w standardzie UHV.







7.3.1.2.

Komora wraz z wizjerami musi zapewniać pełne ekranowanie ze względu na promieniowanie rentgenowskie.







7.3.2.

WYPOSAŻENIE KOMORY ANALITYCZNEJ:







7.3.2.1.

ZMOTORYZOWANY MANIPULATOR DO KOMORY ANALITYCZNEJ, 5- OSIOWY







7.3.2.1.1.

Zmotoryzowany manipulator do komory analitycznej, zintegrowany z systemem nośników próbek, umożliwiający przesuw prosty w kierunkach X, Y, Z oraz zapewniający dwa obroty istotne przy pomiarach XPS. Napęd przesuwu, obrotów i rotacji za pomocą silników krokowych. Zapewnione ogrzewanie i chłodzenie próbki, pomiar temperatury oraz kontrola potencjału próbki.







7.3.2.1.2.

Całkowity zakres ruchu:

kierunek X - nie mniej niż 15 mm

kierunek Y - nie mniej niż 15 mm

kierunek Z - nie mniej niż 12 mm









7.3.2.1.3.

Rozdzielczość translacji: nie więcej niż 2 mikrometry.







7.3.2.1.4.

Rotacja wokół osi Y – co najmniej 900 w jednym kierunku

Rotacja wokół osi Z - nieograniczona, kompucentryczna (ang. „Zalar rotation”)









7.3.2.1.5.

Zakres temperatur: nie mniejszy niż 170-850oK, musi być zapewnione ustawianie i automatyczne utrzymywanie dowolnej temperatury z zadeklarowanego zakresu oraz jej pomiar.







7.3.2.2.

ANALIZATOR ELEKTROSTATYCZNY CZĄSTEK NAŁADOWANYCH







7.3.2.2.1.

Analizator wraz z oprzyrządowaniem musi umożliwiać spektroskopie XPS, AES, UPS a także obrazowanie powierzchni próbki metodami XPS i AES.







7.3.2.2.2.

Typ analizatora: hemisferyczny, 180 stopniowy; średni promień analizatora – nie mniej niż 135 mm; dopuszczalne modyfikacje poprawiające własności analizatora lub dopasowujące go do pracy w różnych trybach.







7.3.2.2.3.

Analizator i system soczewek wejściowych muszą zapewniać pracę w trybach spektroskopii i obrazowania, ustawianie kąta akceptowania i pola widzenia układu - z komputera.







7.3.2.2.4.

Wymagane mody pracy: CAE (ang. Constant Analyzer Energy, czyli FAT – ang. Fixed Analyzer Transmission) i CRR (ang. Constant Retard Ratio, czyli FRR – ang. Fixed Retard Ratio)







7.3.2.2.5.

Detektor wielokanałowy (MCP – ang. Micro Channel Plate)







7.3.2.2.6.

Zakres energii cząstek – nie mniej niż 0-3000 eV







7.3.2.2.7.

Energetyczna zdolność rozdzielcza układu w modzie spektroskopii XPS: nie gorsza niż 0.5 eV dla maksimum Ag 3d5/2







7.3.2.2.8.

Czułość w modzie spektroskopii XPS „Large Area”: nie mniejsza niż 350000 cps przy rozdzielczości energetycznej 0.5 eV.







7.3.2.3.

ŹRÓDŁO ELEKTRONÓW DO SPEKTROSKOPII I OBRAZOWANIA TECHNIKĄ AES Z OPRZYRZĄDOWANIEM







7.3.2.3.1.

Źródło z emisją polową typu Schottkyego







7.3.2.3.2.

Zakres energetyczny: co najmniej do 10 keV







7.3.2.3.3.

Wymagane oprzyrządowanie i oprogramowanie pozwalające na obrazowanie metodą SEM z rozdzielczością nie gorszą niż 100 nm przy energii wiązki 10 keV.







7.3.2.3.4.

Urządzenie musi zapewnić obrazowanie techniką AES z całkowitą rozdzielczością lateralną nie gorszą niż 200 nm.







7.3.2.4.

ŹRÓDŁO PROMIENIOWANIA UV DO SPEKTROSKOPII FOTOELEKTRONÓW UPS Z OPRZYRZĄDOWANIEM







7.3.2.4.1.

Źródło musi dostarczać promieniowanie odpowiadające liniom He I i He II oraz być pompowane różnicowo.







7.3.2.4.2.

Urządzenie musi zapewnić możliwość wykonywania badań spektroskopowych techniką UPS z rozdzielczością energetyczną nie gorszą niż 120 meV mierzoną na poziomie Fermiego Ag.







7.3.2.5.

DZIAŁO JONOWE Z PRECYZYJNYM OGNISKOWANIEM I ODCHYLANIEM WIĄZKI – DO WYKONYWANIA PROFILI GŁĘBOKOŚCIOWYCH







7.3.2.5.1.

Działo wyjustowane względem źródeł RTG i elektronów dla AES oraz analizatora cząstek naładowanych tak by zapewnić możliwość dokonywania profilowania głębokościowego w wybranych miejscach próbki.







7.3.2.5.2.

Działo pompowane różnicowo dostosowane do gazów szlachetnych (Ar, He, Ne)







7.3.2.5.3.

Zakres energii nie mniejszy niż 200-4000 eV z ciągłą regulacją







7.3.2.5.4.

Prąd maksymalny jonów Ar przy 3 kV – nie mniej niż 5 μA







7.3.2.5.5.

Zasilacz działa jonowego, umożliwiający automatyczne wykonanie profili głębokościowych oraz pełną kontrolę poprzez program komputerowy.







7.3.2.6.

ŹRÓDŁO ELEKTRONÓW I JONÓW DO NEUTRALIZACJI ŁADUNKU POWIERZCHNIOWEGO Z OPRZYRZĄDOWANIEM







7.3.2.7.

MIKROSKOP DO OBSERWACJI PRÓBKI







7.3.2.7.1.

Wyjustowany z manipulatorem w sposób umożliwiający precyzyjne określenie położenia analizowanego punktu na próbce







7.3.2.7.2.

Sprzężony w kamerą CCD, obraz obserwowany na monitorze układu komputerowego Urządzenia, z możliwością trwałego zapisu







7.3.3.

KOMORA PREPARACYJNA wyposażona w:







7.3.3.1.

Działo jonowe do czyszczenia powierzchni próbek z oprzyrządowaniem; maksymalna energia jonów nie mniejsza niż 3 keV, prąd jonowy przy energii 3 keV – nie mniej niż 5 μA







7.3.3.2.

System LEED/AES z oprzyrządowaniem; 4 siatkowy, z obserwacją od tyłu (ang. „rear-view”), z przysłoną, z kamerą umożliwiającą obserwację i rejestrację obrazów za pomocą komputera, możliwość zbierania charakterystyk I(V), maksymalna energia elektronów energii w trybie AES: nie mniej niż 3 kV.







7.3.3.3.

Stanowisko do wygrzewania próbki w zakresie temperatur od pokojowej do 1000 K







7.3.3.4.

Magazyn próbek na nie mniej niż trzy uchwyty z próbkami







7.3.3.5.

Stanowisko do łupania próbek.







7.3.4.

ŚLUZA







7.3.4.1.

Śluza musi umożliwiać wprowadzanie nośników z próbkami z otoczenia do systemu UHV, bez konieczności zapowietrzania innych komór próżniowych, tak by w komorze UHV, do której wprowadzana jest próbka, ciśnienie nie wrastało powyżej 1×10-9 mbar po czasie pompowania śluzy nie dłuższym niż 8 h.







7.3.4.2.

Wprowadzanie próbek do śluzy nie może zakłócać w jakikolwiek sposób pracy żadnych urządzeń zainstalowanych w pozostałych komorach lub z nimi połączonych (np. układów pompujących).







7.3.5.

SYSTEM TRANSFERU PRÓBEK







7.3.5.1.

System ładowania i przenoszenia próbek musi zapewniać szybkie i niezawodne przenoszenie próbek o maksymalnych rozmiarach 15x15 mm2 i grubości do 10 mm z otoczenia do układu UHV oraz między komorami Urządzenia.







7.3.5.2.

Nośniki próbek muszą być kompatybilne w stosunku do wszystkich komór UHV, technik analitycznych i preparacyjnych tzn. każdy z nośników może być umieszczony we wszystkich gniazdach Urządzenia.







7.3.5.3.

Urządzenie będzie dostarczone z zestawem nośników zapewniających wykorzystanie wszystkich technik badawczych i preparacyjnych zaimplementowanych w Urządzeniu, jednak nie mniej niż po dwa nośniki każdego niezbędnego rodzaju.







7.3.6.

SYSTEMY ELEKTRONICZNE







7.3.6.1.

Urządzenie musi być wyposażone we wszystkie niezbędne urządzenia elektroniczne (zasilacze, kontrolery etc.) niezbędne do pełnego wykorzystania i obsługi zaoferowanych jego części. Wszystkie urządzenia elektroniczne muszą być zamontowane w szafach przeznaczonych do instalacji elektronicznych układów kontrolno-pomiarowych (za wyjątkiem modułów niezbędnych do sterowania układami przez operatora znajdującego się bezpośrednio przy Urządzeniu (n.p. moduł ręcznego sterowania systemem LEED)).







7.3.6.2.

Urządzenia elektroniczne muszą mieć połączenie z systemem komputerowym tak by możliwe było zrealizowanie wymaganych funkcji całości Urządzenia (patrz pkt. F – System komputerowy).







7.3.6.3.

Kable połączeń pomiędzy urządzeniami elektronicznymi i odpowiednimi elementami Urządzenia muszą pozwalać na rozmieszczenie całości we wskazanym przez Zamawiającego pomieszczeniu oraz poprowadzenie kabli po podłodze (z konstrukcja chroniącą je i okrywającą) lub podwieszenie pod sufitem.







7.3.7.

SYSTEM KOMPUTEROWY







7.3.7.1.

Komputerowy układ sterujący musi być oparty na komputerach PC, spełniać wymogi stabilnej współpracy z wszystkimi elementami Urządzenia, być wyposażony w monitor/y LCD o rozmiarze nie mniejszym niż 19” i oprogramowanie służące do sterowania pomiarami, do zbioru analizy i obróbki danych oraz komunikacji z urządzeniami zewnętrznymi. Układ komputerowy musi spełniać wymagania stawiane przez producenta systemu operacyjnego i wszystkich aplikacji zainstalowanych przez producenta Urządzenia.







7.3.7.2.

Wymagane jest dostarczenie nośników instalacyjnych oprogramowania zainstalowanego w systemie komputerowym oraz wszelkich wymaganych licencji uprawniających Zamawiającego do nieograniczonego czasowo korzystania z dostarczonego oprogramowania.







7.3.7.3.

Wraz z Urządzeniem zostanie dostarczona jedna dodatkowa licencja na oprogramowanie do obróbki danych na innym komputerze.







7.3.7.4.

Do systemu musi być podłączona drukarka laserowa o wydruku wielobarwnym o parametrach nie gorszych niż: pamięć 256 MB, szybkość wydruku 20 str./min, rozdzielczość 600×600 dpi, możliwy druk dwustronny.







7.3.8.

Oprogramowanie systemu komputerowego musi umożliwiać co najmniej:







7.3.8.1.

pełne definiowanie eksperymentów (z możliwością zapamiętania do ponownego wykorzystania), w szczególności:

    1. w modzie zbierania widm – pełna komputerowa kontrola parametrów, definiowanie, w ramach jednego eksperymentu, wielu obszarów energetycznych z różnymi wartościami energii przejścia (ang. pass energy) (ew. stosunek opóźnienia - ang. retard ratio), skoku energii (ew. liczby punktów), czasu pomiaru i liczby skanów,

    2. w modzie obrazowania – pełna komputerowa kontrola parametrów zbierania, w szczególności powiększenia i rozdzielczości,

    3. sterowanie manipulatorem próbki we wszystkich 5 stopniach swobody; wielopunktowa analiza, skany liniowe lub mapy zdefiniowanych obszarów w każdym punkcie; sterowanie kompucentryczną rotacją przy profilowaniu głębokościowym

    4. profilowanie głębokościowe z wieloetapowym trawieniem,







7.3.8.2.

sterowanie manipulatorem próbki we wszystkich 5 stopniach swobody przy transferze próbek,







7.3.8.3.

kontrolę systemów i elementów Urządzenia, co najmniej:

  1. kontrolę komputerową systemu pompowego, pomiaru próżni, zaworów, pomp,

  2. kontrolę i ustawianie parametrów,







7.3.8.4.

kontrolę:

    1. analizatora cząstek naładowanych i detektora,

    2. źródła RTG,

    3. źródła elektronów do AES,

    4. urządzenia do kompensacji ładunku powierzchniowego,

    5. dział jonowych,

    6. układu LEED/AES (z rejestracją obrazów),







7.3.8.5.

prezentację zbieranych danych w czasie rzeczywistym, w modach zbierania widm i obrazowania,







7.3.8.6.

zapisywanie zbieranych danych,







7.3.8.7.

przeglądanie zebranych danych,







7.3.8.8.

obróbkę i analizę danych spektroskopowych, co najmniej:

    1. wyszukiwanie linii widmowych - ręczne i automatyczne,

    2. identyfikację linii widmowych - ręczną i automatyczną,

    3. kwantyfikację widm (z uwzględnieniem współczynników czułości); oprogramowanie powinno obejmować biblioteki wzorcowych widm XPS i AES,







7.3.8.9.

odejmowanie tła (linowego, metodami Shirleya i Tougaarda)







7.3.8.10.

wygładzanie widm, różniczkowanie, całkowanie







7.3.8.11.

dopasowanie maksimów







7.3.8.12.

sporządzanie profili głębokościowych na podstawie zgromadzonych danych







7.3.8.13.

obróbkę i analizę obrazów, co najmniej:

  1. modyfikacja jasności i kontrastu,

  2. wybór skali kolorów lub szarości,

  3. wysoko- i niskoprzepustowe filtry,

  4. rekonstrukcja widma z wybranego obszaru







7.3.8.14.

możliwość eksportu danych jako zbiorów tekstowych lub obrazów







7.3.8.15.

Oraz powinno mieć możliwość definiowania i przechowywania w dedykowanej bazie danych procedur i parametrów wielu procedur (w wielu rożnych grupach dostępnych jedynie dla posiadających odpowiednie uprawnienia użytkowników), a także powinno posiadać wielopoziomowy mechanizm nadawania praw dostępu i uprawnień dla użytkowników







7.3.9.

SYSTEMY POMPOWE







7.3.9.1.

Systemy pompujące muszą zapewnić bezolejową próżnię z ciśnieniem bazowym nie wyższym niż 7x10-10 mbar we wszystkich częściach przeznaczonych do pracy w warunkach UHV po wygrzewaniu w temperaturach nie wyższych niż 1500C.







7.3.9.2.

Pompy winny być odpowiednie do zastosowanego systemu pompującego zapewniającego bezolejową próżnię z dopuszczalnym ciśnieniem.







7.3.9.3.

Systemy pompujące komory analitycznej, komory preparacyjnej i śluzy muszą pracować niezależnie.







7.3.9.4.

Urządzenie musi być wyposażone w dostateczną ilość mierników ciśnienia niezbędną do jego normalnej bezpiecznej eksploatacji. W szczególności musi być zapewnione monitorowanie ciśnienia w komorach analitycznej i preparacyjnej w czasie normalnej pracy w zakresie UHV, a podczas odpompowywania – od ciśnienia atmosferycznego do zakresu UHV.







7.3.9.5.

Ciśnienie w śluzie musi być monitorowane podczas wprowadzania próbek od ciśnienia atmosferycznego do zakresu UHV.







7.3.10.

UKŁAD DO WYGRZEWANIA URZĄDZENIA







7.3.10.1.

Urządzenie musi mieć zautomatyzowany system wygrzewania z układem sterującym zapewniającym utrzymanie właściwej temperatury we wszystkich jego częściach.







7.3.10.2.

Jeśli części Urządzenia wymagają różnych temperatur wygrzewania, system wygrzewania musi być podzielony na odpowiednie strefy oddzielnie kontrolowane i sterowane.







7.3.10.3.

System sterowania temperaturą musi być sprzężony z pomiarem ciśnienia w wygrzewanych częściach Urządzenia.







7.3.10.4.

Urządzenie musi być wyposażone w demontowalne ekrany izolujące od otoczenia podczas wygrzewania.







7.3.11.

INNE SYSTEMY







7.3.11.1.

Wszystkie wewnętrzne części Urządzenia dostępne wizualnej kontroli muszą być wyposażone w system oświetlenia.







7.3.11.2.

Urządzenie musi być wyposażone w układy precyzyjnego dozowania gazów do wszystkich urządzeń, które tego wymagają. Zapewniona będzie możliwość niezależnego (bez wpływu na pracę układów pompujących pozostałych części Urządzenia) przepłukiwania i odpompowywania (z wygrzewaniem) linii dostarczających gazy, tak by możliwe było wymienianie zbiorników z gazami podczas eksperymentów.







7.3.11.3.

Urządzenie musi być wyposażone w wymagany (w szczególności dla źródła RTG) system chłodzenia cieczą (poza LN2) pracujący w obiegu zamkniętym i włączony w system sterowania zapobiegający awariom w przypadku braku chłodzenia.

Urządzenie zostanie wyposażone we wszystkie elementy i akcesoria (za wyjątkiem naczyń Dewara) niezbędne do chłodzenia ciekłym azotem elementów, które tego wymagają.









7.3.11.4.

Urządzenie będzie dostosowane do zapowietrzania za pomocą suchego azotu z butli lub odparowywanego z naczynia Dewara. W szczególności dotyczy to śluzy do ładowania próbek.







7.3.12.

Urządzenie i jego konfiguracja musi umożliwić doposażenie i rozbudowę Urządzenia o co najmniej:







7.3.12.1

Dodatkowe niemonochromatyzowane źródło promieniowania X o dwóch anodach (Mg i Al) zaopatrzone w liniowy przesuw, układy zasilania i chłodzenia; zapewniające dla promieniowania Mg K alpha rozdzielczość w modzie spektroskopii XPS nie gorszą niż 0.8 eV dla maksimum Ag 3d5/2 oraz czułość w modzie spektroskopii XPS „Large Area”: nie mniejsza niż 650000 cps przy tej rozdzielczości energetycznej.







7.3.12.2.

Układ do spektroskopii rozpraszania jonów (ISS - ion scattering spectroscopy) z wymaganymi urządzeniami elektronicznymi, komputerowym sterowaniem i zbieraniem danych oraz oprogramowaniem. Układ musi zapewnić energetyczną rozdzielczość (FWHM) nie gorszą niż 15 eV mierzoną dla próbki złota i wiązki jonów He+ o energii 1 keV oraz czułość nie gorszą niż 25 000 cps/nA dla maksimum Au.







7.4.

Nietypowe parametry urządzenia i/lub jego wyposażenia istotne ze względu na sposób użytkowania, czy instalację. Wymagania co do wymiarów i wagi urządzenia.







7.4.1.

Wymiary poszczególnych elementów Urządzenia muszą umożliwiać ich transport wewnątrz budynku do miejsca instalacji Urządzenia przez drzwi o wymiarach otworu: szerokość 180cm i wysokość 205cm, chyba że, Wykonawca uzyska pisemną akceptację Zamawiającego na niespełnienie tego warunku. W przypadku, gdy Wykonawca zaoferuje urządzenia o parametrach wymagających przy dostawie i instalacji zapewnienia szerokości otworu drzwi większej niż podana w dokumentacji projektowej, Zamawiający dopuszcza wyrażenie zgody na zmianę parametru szerokości drzwi. Zmiana wymagać będzie uzyskania pisemnej zgody projektanta na zmianę dokumentacji projektowej w tym zakresie. Wykonawca winien zwrócić się z odpowiednim wnioskiem do Zamawiającego w terminie umożliwiającym wprowadzenie odpowiednich zmian do dokumentacji projektowej, w tym gwarantującym wykonywanie robót budowlanych uwzględniających zmianę zgodnie Harmonogramem rzeczowo – finansowym.







7.4.2.

Maksymalna wysokość zmontowanego Urządzenia ze względu na wysokość pomieszczenia – 390 cm.







7.4.3.

Wymiary zmontowanego Urządzenia wraz z jego strefą serwisową muszą mieścić się wewnątrz wyznaczonych linii ograniczających powierzchnię posadowienia Urządzenia zaznaczonych na planie rozmieszczenia urządzeń, chyba że Wykonawca uzyska pisemną akceptację Zamawiającego na niespełnienie tego warunku.







7.4.4.

Maksymalna waga Urządzenia musi uwzględniać przyjęte maksymalne obciążenie użytkowe wynoszące 5 kN/m 2.






1   ...   4   5   6   7   8   9   10   11   ...   18


©snauka.pl 2016
wyślij wiadomość